반도체는 순수 상태에선 전류를 거의 안 흘리지만, 불순물을 더하는 도핑으로 캐리어를 만들어 도전성을 조절합니다. N형(자유전자)과 P형(정공)을 붙인 PN 접합에서는 경계의 캐리어가 재결합해 공핍층과 전위 장벽(~0.7V)이 생기는데, 이게 다이오드·BJT가 보이는 문턱 전압의 정체입니다. 순방향 바이어스는 장벽을 좁혀 도통시키고 역방향은 넓혀 차단 — 이 한 방향 도통이 다이오드(접합 1개)·BJT(접합 2개)·MOSFET(전압 채널)의 공통 토대입니다.
도핑 — N형과 P형
진성 실리콘은 거의 부도체입니다. 5가 불순물(인·비소)을 넣으면 자유 전자(−)가 남아 N형, 3가(붕소)를 넣으면 정공(+)이 남아 P형 — 이 다수 캐리어가 전류를 나릅니다.
정공은 '전자가 빠진 자리'로, 옆 전자가 메우며 이동하면 마치 +전하가 반대 방향으로 흐르는 것처럼 보입니다.
형
첨가 불순물
다수 캐리어
N형
5가 (인·비소)
자유 전자 (−)
P형
3가 (붕소)
정공 (+)
도핑으로 다수 캐리어를 만든다
PN 접합과 공핍층 — 0.7V 문턱의 정체
N과 P를 붙이면 경계에서 전자·정공이 재결합해 캐리어가 없는 공핍층(depletion region)이 생기고, 이 층이 전위 장벽을 만듭니다.
이 장벽을 넘어야 전류가 흐르므로, 바로 이것이 다이오드·BJT에서 보는 ~0.7V(Si) 문턱의 정체입니다.
강의는 이 바닥(도핑·공핍층)을 건너뛰고 '순방향 0.7V 문턱'부터 시작합니다. 다이오드·BJT가 안 잡혔다면 십중팔구 여기가 그 빈칸 — 강의 전에 PN 접합·바이어스를 먼저 보면 '문턱·차단'이 갑자기 말이 됩니다. 밴드갭·페르미 준위 같은 더 깊은 물성은 필요할 때 보강합니다.